K&S独自のバーチカルワイヤテクノロジーは、高密度かつ省スペースなインターコネクトを実現。デバイスのパフォーマンスを最大化しつつ、デバイスサイズを最小化することで、次世代の高度なパッケージング要件に応えます。



概要

バーチカルワイヤ技術について


バーチカルワイヤボンディングは、ワイヤボンディングによる電気的接続を従来の水平方向ではなく垂直方向に形成する先進的なインターコネクト技術です。この画期的な手法は、現代のエレクトロニクスにおける小型化と高密度パッケージングへの需要の高まりに対応します。


ワイヤを垂直にボンディングすることで、接続部の占有面積を大幅に削減でき、3D ICや積層ダイ構成といった多層パッケージ構造を実現します。この革新的な設計により信号経路が短縮され、電気抵抗の低減、電力損失の削減、シグナルインテグリティの向上につながります。これは高周波かつ高速用途において極めて重要です。


バーチカルワイヤボンディングは、スペース制約と高いデバイス性能が両立する高度な電子機器に特に適しています。スマートフォンやタブレットからウェアラブルデバイス、IoTシステム、車載向け機器に至るまで、本技術は機能性や信頼性を損なうことなく、デバイスのコンパクト化を推し進めることのできる技術です。

Expanded Bond Area
K&Sの専門技術

革新的なバーチカルワイヤソリューション


K&Sは、半導体パッケージングおよびインターコネクトソリューションにおける数十年にわたる専門知識を活かし、バーチカルワイヤボンディング技術の最先端をリードしております。当社独自のVertical Connectプロセスと先進的なボンディングプラットフォームにより、高密度インターコネクトにおいて高い精度と拡張性を実現します。実績ある当社の技術は、Cuピラーやシリコン貫通ビア(TSV)に代わるコスト効率に優れた選択肢を提供し、製造工程の複雑化や専用治具への投資負担を軽減します。


先進的な制御システムにサポートされた精密エンジニアリングにより、超微細ピッチ用途においても一貫したワイヤ位置精度とボンディングの接合信頼性を保証します。量産向けに設計された当社の拡張可能な製造ソリューションは、品質を損なうことなくスループットを維持し、プロセス開発から統合までの包括的なサポートにより、お客様の性能と信頼性の最適化を支援いたします。


革新性と堅牢なエンジニアリングを融合させることで、K&Sは次世代電子機器の高い要求に応え続けていきます。これにはSiP設計、メモリモジュール、卓越した電気的性能を必要とするRFアプリケーションなどが含まれます。

Expanded Bond Area
Expanded Bond Area
ソリューションエリア

主なアプリケーション

  • 高性能メモリ(積層ダイ/ウェハレベル)
    DRAM/NANDスタックおよびウェハレベルボンディングに不可欠であり、超高密度インターコネクトとシグナルインテグリティの向上を実現します。
  • SiP および RF モジュール(EMI シールド)
    コンパクトなシステムインパッケージおよび RFフロントエンド設計に不可欠です。
  • 3D IC/積層ダイインターコネクト
    多層アーキテクチャ向けの TSV* およびCuピラーに代わる費用対効果の高い代替手段であり、次世代の高速アプリケーションをサポートします。
  • ウェーハレベルパッケージング(WLP)
    ウェーハレベルプロセスにおける精度と信頼性を実現する、スケーラブルなボンディングソリューションです。
  • パッケージオンパッケージ(PoP)インターコネクト
    PoP構成向けの垂直配線をサポートし、モバイル機器や民生電子機器におけるスペース制約のある設計に最適です。

*特定用途

確かな成果を支える技術

主な特長

  • 高密度インターコネクト
    先端パッケージングにおけるマルチダイ実装や、ウルトラファインピッチ・パッドに対応します。
  • 低コスト & プロセスの簡素化
    CuピラーやTSV(シリコン貫通電極)を用いた手法と比較して、必要な装置や工程数が少なく、製造コスト全体を削減できます。
  • 電気特性の向上
    ワイヤー長を短縮することで、信号遅延と消費電力を低減できます。
  • 柔軟性 & スケーラビリティ
    マスクや大規模なプロセス認定(評価)が不要で、ウェハレベルおよびパッケージレベルのボンディングに柔軟に対応可能です。
  • 信頼性の向上
    小型かつ高負荷な環境下でも、安定したパフォーマンスを維持します。

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